2017年10月24日~28日まで幕張メッセで開催された展示会に初めて「ダブルクリーンろ過装置」を展示しました。

2017年4月に特許取得してデモンストレーション用の装置を製作。トラブル続きでとても高価なものに仕上がりました。

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